与白光干涉单元WLI-Unit匹配,支持2.5×至50×多倍率WLI Plan Apo白光干涉物镜,三丰Mitutoyo
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Jun 08, 2026
日本三丰(Mitutoyo)WLI Plan Apo系列白光干涉物镜,专为高精度3D表面形貌测量设计。该系列提供2.5×,5×,10×,25×,50×多种倍率,具备长工作距离(最长达13mm)与高数值孔径(最高达0.70),实现纳米级分辨力。平场复消色差物镜设计确保优异成像,适用于半导体、光学元件等领域的微观轮廓、台阶高度与粗糙度无损检测,是白光干涉测量系统的核心光学组件。配合专用的WLI-Unit白光干涉单元,以非接触方式实现Z轴分辨率达纳米级的三维扫描,具备高稳定性与抗振动干扰能力,为精密制造提供从研发到在线检测的全流程高精度测量解决方案。
目前在半导体、光学元件及汽车制造等领域的微观制造过程中,产品表面形貌与尺寸的精确测量至关重要,它不仅保障了性能稳定性,还推动了生产工艺的优化与升级。实现这种高精度测量的核心部件之一,是专用的白光干涉物镜。日本三丰(Mitutoyo)提供的WLI Plan Apo系列物镜,便是为匹配其WLI-Unit传感器而设计的高性能光学组件。
WLI技术基于光干涉原理,利用白光进行测量。工作时,白光被分束器分为两路:一路射向参考反射镜,另一路照射被测工件表面。两束反射光相遇后产生干涉现象,当干涉物镜沿Z轴扫描时,只有在焦点位置才会形成明显的白色干涉条纹。通过CCD相机捕获条纹强度峰值,并经过算法处理,即可重建出工件表面的三维形貌。
这项技术具备多重优势:首先,作为非接触式方法,它避免了传统接触测量可能造成的表面损伤,特别适合芯片、光学元件等脆弱部件的无损检测;其次,WLI可实现纳米级分辨率,Z轴精度可达4纳米,能直观呈现微观起伏,支持平面度、台阶高度等三维分析,满足半导体和光学器件的高标准需求;此外,其模块化设计提供了灵活适配性,例如三丰公司的WLI-Unit传感器组件,既可独立作为实验室精密仪器,也能集成到各类设备或生产线中,降低成本的同时扩展了应用场景。

Mitutoyo白光干涉测量用物镜:WLI Plan Apo 2.5×/WLI Plan Apo 5×/WLI Plan Apo 10×/WLI Plan Apo 25×/WLI Plan Apo 50×
白光干涉物镜特点:
-与WLI-Unit配套的新设计
-确保长工作距离,实现小型、轻量化(齐焦60mm)
-高NA、高分辨力
-平场复消色差物镜规格
-标配干涉条纹调整装置
WLI物镜参数表:

上述规格栏中的分辨力是根据基准波长(λ=0.55µm)计算得出的值。
倍率是与成像镜头(焦距100mm)组合时的值,所有型号齐焦距离均为60mm,适用成像透镜f为100mm,安装螺纹均为RMS/20.32mm×36TP。
白光干涉单元特点:
-可使用白光干涉进行非接触式高精度细微表面性状测量(例如,3D形状测量)
-不依赖于光学倍率的高度测量精度,即使是低倍率镜头,也可使用Z向高分辨力进行测量
-高纵横比测量,不依赖于光学系统的NA进行检测,支持高纵横比形状测量
-抗干扰振动的高稳定性
-小型轻便,可能会受观察对象的形状或表面性状的影响。
白光干涉单元参数表:


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