三丰Mitutoyo明视场紫外校正物镜涵盖M Plan Apo UV系列（10×、20×、50×、80×）与LCD Plan Apo UV系列（20×、50×），专为高精度成像与激光加工设计。M Plan UV系列覆盖广泛倍率，提供高数值孔径与优异分辨力，适用于半导体检测、荧光显微镜和光刻；LCD Plan UV系列针对透过0.7mm玻璃基板观察优化，确保显示面板检测中的边缘锐度。结合YAG激光投影时，掩模图像可精确缩小至f/200倍，实现可控加工面积。这些物镜采用266nm和550nm双波长校正，具备长工作距离、无限远校正及平场规格，支持明视场观察、紫外观察和激光加工应用。无论是在材料科学、微电子还是工业检测领域，均能提供清晰、高对比度的紫外与可见光成像，满足研发及量产环境的严苛需求。
      M Plan UV系列在10倍至80倍放大倍率范围内提供卓越性能，为高要求应用提供优异的紫外光校正成像。这些长工作距离物镜无需盖玻片，具有一致的齐焦距离，在紫外及可见光谱范围内实现高数值孔径与精准校正，是半导体检测、荧光显微镜和光刻等领域的理想选择，三丰Mitutoyo明视场紫外校正物镜在研究与工业环境中均能提供无与伦比的多功能性和清晰度。无论您从事先进材料科学、光学还是微电子研究，M Plan UV物镜均能在近紫外范围内呈现清晰、高对比度的成像效果。
      LCD Plan UV系列专为显示面板检测、光刻对准及半导体制造而设计，提供高性能的紫外光校正光学系统。该系列提供20倍和50倍两种倍率，兼具长工作距离特性，在紫外和可见光范围内均具备优异的校正能力。针对平板显示器和基板的精密成像任务，本系列物镜经过专门优化，可实现出色的边缘到边缘锐度与极低色差。三丰物镜经过优化，适用于透射光与反射光系统，确保在研发与高产能工业环境中均能实现灵活应用。特别适合洁净室集成及精密检测流程。

液晶紫外LCD Plan Apo UV

明视场紫外校正物镜特点：

-明视场观察/紫外观察/激光加工
-波长校正266＆550nm
-无限远校正
-长工作距离

-平场规格

明视场紫外校正物镜参数表：

结合使用显微镜和YAG激光，在试料上投影掩模图像时，掩模图像会缩小到f/200(本公司镜筒透镜，焦距f＝200mm)倍投影，由于f550＞f266，因此紫外光(波长266nm)的加工 面积略小于可见光(波长550nm)的掩模图像。
上述规格栏中的分辨力和物镜单体焦深是根据基准波长(λ＝0.55µm)计算得出的值。可见区视场数ø30，近紫外区视场数ø16。
明视场液晶紫外物镜特点：
-明视场观察/紫外观察/激光加工
-波长校正266＆550 nm
-无限远校正
-长工作距离
-平场规格
-适合透过厚度0.7mm玻璃(材质：sio2)观察的校正设计
-根据厚度、材质、折射率进行设计制作
明视场液晶紫外物镜参数表：
结合使用显微镜和YAG激光，在试料上投影掩模图像时，掩模图像会缩小到f/200(本公司镜筒透镜，焦距f＝200mm)倍投影，由于f550＞f266，因此紫外光(波长266nm)的加工 面积略小于可见光(波长550nm)的掩模图像。
上述规格栏中的分辨力和液晶紫外物镜单体焦深是根据基准波长(λ＝0.55µm)计算得出的值。可见区视场数ø30，近紫外区视场数ø16。

平场复消色差物镜尺寸图：