193nm，反射率>96%，2J/cm^{2，ArF准分子激光反射镜}

我们提供种类齐全的高品质准分子激光镜，这些激光反射镜193nm为高能准分子激光应用而设计，独特的镀膜技术，为用户提供适用于严苛激光环境的光学元件。

193nm反射镜还可称为深紫外高反镜、193反射镜、准分子激光镜和ArF反射镜。193nm是氟化氩（ArF）准分子激光的特征波长，属于深紫外（DUV）波段。193nm深紫外高反镜镀多层介质镀膜或增强金属镀膜，在193nm处实现高反射率，同时抑制吸收与散射，适配激光系统的光束转向、谐振腔搭建等需求；193nm准分子激光反射镜常用入射角度为0°和45°。

激光反射镜193nm的基底材质有紫外级熔融石英（UV Grade Fused Silica，如Corning 7980，BK7），热稳定性好、波前畸变低、193nm抗辐射性能强；还有一些场景会用CaF₂（氟化钙）进一步提升光学均匀性。另外，ArF准分子反射镜/193反射镜还可根据用户需求提供定制。

激光反射镜193nm图示

ArF准分子反射镜基底规格：

ArF准分子反射镜的特点：

- ArF反射镜标准品型号多，有库存，货期短

- 193反射镜反射率高，经过多个反射镜反射后，光量也不会衰减很多

- 使用吸收小的电介质膜，可以承受大功率激光的连续照射

ArF反射镜的应用

- 半导体光刻 

- 准分子激光加工 

- 科研，超快激光

- 工业检测

ArF反射镜的标准型号表：